主要用途
主要用于镀制电导膜保护膜、超硬膜、装饰膜等，适合于塑料、陶瓷、玻璃、金属、刀具、刃具、模具及其机械零件等基体表面镀膜，也可用于生活用具、瓷质工艺品及仿金品的镀膜。

主要组成
设备由真空室体、弧源（有的加磁控源）、真空机组、充气装置、烘烤装置、工件夹具、弧电源、偏压源及其辅助装置等组成。

主要特点
★具有大、中型生产能力的设备。
★根据不同的基体形状（如板材、管材、其它复杂零件）配置不同位置的弧源，适应性强。
★设备离化率高，沉积速率高，基体表面膜附着力好，耐磨性、耐蚀性好。零部件使用寿命成倍增长。
★设备采用低电压电源，工作安全可靠。
★某些型号设备磁控源及弧源配置多样化，可满足不同镀膜工艺的要求，节省投资。
★配有合理的真空机组、抽气速率快、真空度高。

多弧离子镀及磁控多弧设备主要技术指标

	镀膜室尺寸 (mm)	极限真空度(Pa)	电弧蒸发源功率及个数(Kw)	磁控源电源功率及个数(KVA)	电源功率(Kw)	总容量(Kw)	设备总重量(T)	占地尺寸 长×宽×高 (mm)
DH-16A多弧离子镀膜机	Ф1600×3400	≤3×10-3	2/20	/	63	185	8.5	6000×3000 ×2300
JTD-8多弧离子镀膜机	Ф850×1000	≤1.5×10-3	2/8	/	20	50	2.5	2300×2000 ×2300
JTD-1000S(双)磁控多弧离子镀膜机	Ф1000×1050	≤6.7×10-4	2/16	20/2	20	110	4.2	4000×3800 ×2300
JTD-12磁控多弧离子镀膜机	Ф1250×1520	≤2×10-3	2/10	20/1	20	90	5.2	5000×3800 ×3000